華為轉機出現!日媒曝出:中國聯合尼康佳能研發光刻機
新聞來源: 金十數據 於 2020-10-15 8:24:14 大字閱讀  手機網頁版閱讀 手機移動端下載 6park.com
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日媒曝出，中國企業已經打算提供資金，聯合尼康（Nikon）、佳能（Canon）這兩家日本巨頭共同研發高端光刻機。 6park.com
美國對華為的新規生效之下，加緊研究光刻機等被“卡脖子”的芯片製造設備成為我國當前科技發展的重中之重。要知道，當前我國最先進的光刻機設備僅發展至90nm工藝，可以滿足傳感器、電源芯片、人機接口芯片、視頻芯片等等日常所需，卻不能生產高端智能手機所需的SoC芯片等高端零部件。 6park.com
而這也是華為、中芯國際等企業發展受限的重要原因，因國產設備進度緩慢，當前高端光刻機製造技術又被牢牢掌握在美日歐等企業手中，加上美國的種種高壓，阿斯麥（ASML）為首的海外巨頭被迫停止與中國企業合作。不過，日本媒體近日曝出的一則消息，似乎為我國高端光刻機研發帶來了一絲曙光。 6park.com
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據日經中文網在10月15日最新報道，業內人士透露，為了推進極紫外線以外的EUA光刻設備的研發進程，中國企業已經打算提供資金，聯合尼康（Nikon）、佳能（Canon）這兩家日本巨頭共同研發光刻機。不過，考慮到當前僅有荷蘭巨頭ASML能造出生產極紫外線光刻設備，此番中日的合作有了新思路。
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按照日媒的說法，如果是基於極紫外線以外技術的高端光刻機，那麼日本的尼康和佳能均有能力製造。具體的執行思路為：維持“摩爾法則”，對當前的半導體製造工藝進行升級換代，加強每塊芯片增加元件數的“立體化”技術研發，發展極紫外線以外的光刻設備。