原标题：国产光刻机现状如何？技术全面进步，但90nm之后依然困难

最近华为鸿蒙系统的火爆以及全球芯片紧缺的现状，使得“国产芯片”这个话题再一次回到了人们议论的中心。尽管国内中芯国际在14nm工艺上已经能够做到高良率的量产，但是一方面产能规模尚不能和海外芯片代工厂相比，另外由于生产线上的半导体设备严重依赖海外技术，特别是美国技术，所以也要受到相关的限制，比如说无法给华为代工芯片。 6park.com

事实上，要说国内不重视自主芯片发展那是不可能的，关键还是生产芯片的光刻机这部分，技术门槛的确比较高。从技术角度而言，我国的确已经取得了不小的进步，比如上海微电子在去年就传出了今年年底会推出支持生产28nm芯片的国产DUV光刻机，而像中科院这几年也在光刻技术上屡有建树，之前还提出了快速光学邻近效应修正技术，使得我国自主光刻技术有了重大的进展。 6park.com
但技术进步只是一方面，真正要将光刻机相关的技术发展到可用阶段，甚至达到商用，难度还是非常大的。目前全球光刻机主要被荷兰ASML、日本佳能和尼康所垄断，三家厂商合计占据了约99%的市场份额。当然，我们熟知的生产EUV光刻机的荷兰ASML，这几年更是一家独大，所有先进制程的芯片生产全部依靠ASML的光刻机。 6park.com

至于我国国产光刻机的现状，目前上海微电子依然走在了前端。上海微电子已经量产了自主研发的光刻机，包括了SSX600和 SSX500两个系列，但问题是上海微电子的国产光刻机，在技术上的确和海外差距非常大。从芯片生产的角度来看，上海微电子量产的国产光刻机，目前可以制造 90nm、110nm、280nm的芯片，相比ASML的EUV光刻机已经可以量产3nm芯片相比，还是很难相提并论的。 6park.com
而且除了光刻机在基础技术和芯片工艺上的差异之外，上海微电子的国产光刻机在良率和小效率上也无法和海外相比。据悉上海微电子的国产光刻机只是单工台，过货能力只有每小时75片，这个生产效率使得有芯片制造需求的厂商，为了成本而不得不考虑采用海外的光刻机，因为即使是生产90nm以及更古老的芯片，上海微电子的国产光刻机在良率和产能上，也是无法满足厂商的需求的。 6park.com

至于传闻中今年年底上海微电子会推出的28nm国产光刻机，其实这个说法有点不完整。准确地说，上海微电子号称年底推出的新一代国产光刻机，从技术上应该说是193nm ArF浸润式光刻机，从技术上可以和之前ASML的DUV光刻机相比，算是国产的DUV光刻机，它当然可以生产28nm的芯片，但是在技术提升后，多次曝光甚至可以支持7nm制程的芯片制造。所以说它是28nm光刻机，实际上有点小瞧它了。 6park.com
但问题是这款国产DUV光刻机，真的能在年底推出么？不少业内人士，甚至是自称上海微电子的前员工都出来发表了自己的意见。有的人表示：光刻机有可能在年底研发出来，但无法马上使用，还需要机台和工艺的磨合，再加上反复提升改进，时间会比想象的长得多；还有一些人表示：现在相关的项目其实已经不敢投入，而且一些试错的数据没有意义，也无法正式生产光刻机，甚至有可能两年内都无法正式将28nm光刻机量产上市。此外还有传闻说上海微电子之前生产的可量产90nm芯片的光刻机，虽然在国内也有一定销量，但基本上其他厂商购买这样低端光刻机是作为指标，并不真正使用，还是靠海外的光刻机来生产芯片。 6park.com

综合各方面的情况来看，从技术上来看，上海微电子应该已经掌握了生产DUV光刻机的关键技术，而且上海微电子管理层也表示，上海微电子在技术上拥有基本的本土UV 能力，无需美国 IP 来制造芯片。也就是说如果上海微电子的DUV光刻机问世后，采用这个光刻机生产的芯片是不受美国限制的，这或许对于国内芯片厂商而言是最为关键的。 6park.com
但问题是，从现实的情况来看，上海微电子的DUV光刻机想要在年底问世，难度的确很大，而且即使公布了，也很难说就能量产这样的国产DUV光刻机并马上将其商用。更别说目前没有人知道在良率和效率上，这款国产光刻机到底是什么水平，至于其他芯片厂商将其购买后生产芯片，目前来看不说遥遥无期，但短时间内肯定难以实现。 6park.com

不出意外的话，在未来几年时间里，国内的芯片厂商想要制造芯片，还是得以海外光刻机为主，一方面可以生产工艺更为先进的芯片，另一方面在商业角度而言，考虑到成本、效率，国产光刻机也没法和海外同类产品相比，厂商怎么选择并没有什么疑问。 6park.com
当然现在国内在自主研发光刻机上的确下了不少功夫，上海微电子也好，中科院也好，现在实际上都是处于一个积累的过程，这样一个门槛较高的领域，我们又落后海外太多，想要从技术以及商业上追赶上来，绝非一朝一夕之功，而且我们在进步，海外也在进步，我们国产光刻机还在努力突破40nm工艺，海外已经搞定了3nm的制程，甚至IBM都已经生产出2nm的芯片，这不得不让人感慨差距的确非常大。 6park.com

值得一提的是，业内一直传闻华为在考虑自己建造芯片生产线，并已经开始自主研发光刻机。之前曝光的招聘启事，也表示华为正在招募这方面的人才。另外从华为最近一系列投资来看，似乎也在布局光刻机领域。这些消息或许会让一些人感到欢欣鼓舞，但科技这个事儿是没有捷径可走的，客观而言，这并不是一个厂商扩大投资规格就能让技术突飞猛进的事儿。所以华为的投资可以看做是希望未来能在国内相关领域能有一定话语权，显然无法在短时间内解决现有的困境。 6park.com
当然，很多人希望华为能在不同的技术领域弯道超车，比如之前谣传的光芯片，不过现在看来这的确只是谣传，华为所谓的光芯片是用于网络设备，而不是很多人想的那样用光子替代硅生产芯片。另外在光子芯片的研发上，目前世界上最厉害的是Intel……依然是一家美国公司。 6park.com

最后还是要说，尽管困难重重，现阶段我们的技术和规模也和海外相差甚远，但是国产光刻机以及国产芯片这条路是必然要走下去的。尽管现在一些人认为短期会有成效，更像是一种急功近利的盲目乐观，或者是为了追捧热点的口不择言，但是从长远来看，想要摆脱海外的限制，甚至在未来高端科技领域占据一席之地，这依然是我们必须要迎头赶上的一环。
评分完成：已经给 婉君 加上 50 银元！