中国光刻胶制造商对标国外先进技术理念,提升光刻胶国产化率
全球光刻胶的核心技术基本被日本和美国企业掌握,中国在光刻胶行业与国际先进水平相比仍有差距。一方面,中国光刻胶关键原材料和光刻胶设备主要依赖进口,对外依存度大;另一方面,中国光刻胶制造商起步晚,缺乏技术积累,导致中国光刻胶制造商的市场竞争力弱。近年来,受益于国家"02专项"的支持,中国本土光刻胶制造商积极提升光刻胶产品技术水平和研发能力,推进光刻胶国产化的进程。 6park.com
光刻胶行业定义及核心技术分类
光刻胶是由树脂、感光剂、溶剂及各类添加剂等组成的对光敏感的混合液态感光材料。在图形转移介质经过曝光、显影、刻蚀等一系列流程环节后,光刻胶可将所需要的掩膜板图形转移至代加工衬底上。光刻胶是半导体、平板显示器、PCB等微电子、光电子领域加工制造中使用的关键材料,其性能直接影响了下游应用产品的集成度、功耗性能、成品率及可靠性。光刻胶根据显示效果的不同,光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。
光刻胶行业分类(按显示效果划分) 6park.com
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中国光刻胶行业产业链分析
中国光刻胶行业产业链由上至下可分为上游原材料供应商和设备供应商,中游光刻胶制造商及下游应用终端领域。
中国光刻胶行业产业链 6park.com
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上游:
上游参与者为溶剂、树脂、光敏剂等各类原材料供应商和光刻机、显影机、检测与测试等设备的供应商。溶剂、树脂、光敏剂是光刻胶生产的主要原材料,其中光敏剂在光刻胶生产总成本中占比达到60%。整体而言,中国从事光刻胶原材料研发及生产的供应商较少,中国光刻胶原材料市场主要被日本、韩国和美国厂商所占据。因此,中国光刻胶制造商对进口材料依赖性较大,在上游原材料环节的议价能力弱。
在上游设备供应商方面,光刻机、显影机、检测与测试设备是中国光刻胶制造的核心设备。此类设备主要依赖美国、日本、荷兰等国。其中荷兰ASML已垄断了高端光刻机市场。由此可见,中国在行业上游设备市场方面不具备竞争优势,国外设备厂商的议价能力强。
中游:
中游参与主体为光刻胶制造商,主要负责光刻胶的研发、制造和销售。目前中国苏州瑞红和科华微电子在光刻胶产业积极布局,且其光刻胶取得下游厂商的认证,这两家企业已在光刻胶领域取得较大进步,推动了光刻胶国产化进程。整体而言,中国光刻胶制造商与国外制造商相比,中国本土光刻胶制造商技术不高,市场竞争力不强。未来,在光刻胶国产化进程加快的趋势下,光刻胶制造商发展空间将逐步增大。
下游:
下游应用终端领域主要包括半导体、平板显示器和PCB领域。行业下游应用终端领域对光刻胶行业在产品设计、技术发展上具有导向性,尤其是半导体、平板显示器和PCB行业的发展对光刻胶行业的发展具有至关重要的作用,这三大行业应用领域的终端用户在光刻胶行业产业链中具有强大的议价权。
中国光刻胶行业市场规模分析
在全球高新技术发展的背景下,中国政府高度重视半导体、平板显示器及PCB行业的发展。在国家一系列红利政策带动下,中国半导体、平板显示器及PCB行业发展势头良好。作为半导体、平板显示器及PCB行业制造环节中关键的材料,光刻胶的市场需求得到快速释放,尤其是平板显示器用的光刻胶产量增长,中国光刻胶产量呈现稳中有升态势。根据头豹研究院数据显示,中国光刻胶产量从2014年的6.3万吨增长到2018年的9.0万吨,年复合增长率为9.3%。
受益于中国红利政策的扶持,中国本土光刻胶制造商积极提升光刻胶产品技术水平和研发能力,推进光刻胶国产化的进程。未来,中国有望突破高端光刻胶产品的技术壁垒,带动中国光刻胶产量进一步提升。与此同时,全球半导体产业、平板显示器、PCB行业逐渐向中国转移,带动中国光刻胶的需求激增,中国光刻胶行业拥有较大发展空间。除此之外,在中国"工业4.0"、"互联网+"和"中国制造2020"持续深化发展的背景下,行业下游应用终端领域对光刻胶的需求有望持续增长,从而推动中国光刻胶产量提升,因此未来5年内光刻胶市场规模将保持高速增长,市场发展空间广阔。
中国光刻胶市场规模,2014-2023年预测 6park.com
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中国光刻胶行业驱动因素分析
· 5G商用带动光刻胶行业发展
为实现无线传输、增加传输速率,大规模的天线阵列和超密集组网是发展5G的关键技术,而高频PCB是5G通信基材,具有低损耗、高可靠性、高频特性等特点。在5G技术的发展下,5G新建的通信基站数量将会达到4G时代的2倍以上,超密集小基站的建设扩大了高频PCB需求。作为PCB制造环节的必备材料,中国光刻胶市场需求相应地将快速释放。
· 全球半导体制造基地向中国转移
2017年至2020年期间,中国大陆将新建27座晶圆厂,在全球新建晶圆厂数量中占比为43.5%,中国将成为全球晶圆厂投资活动最活跃的地区。在半导体集成电路生产制造过程中,光刻工艺占整个集成电路制造成本的35%左右,光刻胶是光刻工艺实现选择性刻蚀的关键材料。因此,全球半导体制造基地向中国转移,促使了中国半导体产能增长,从而带动中国光刻胶市场需求的增长。
· 中国光刻胶技术逐步提高
受益于国家"02专项"的支持,中国光刻胶行业从起步时期依靠进口发展到如今已具备部分光刻胶产品研发和制造能力,中国光刻胶行业在i线光刻胶、g线光刻胶、KrF光刻胶、EUV光刻胶取得了一定的技术进步,推动光刻胶国产化程度的提升。
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中国光刻胶行业发展趋势
· EUV光刻胶将成为主流
虽然现阶段光刻胶制造商已成功利用ArF浸没式光刻工艺和多重曝光技术突破ArF光刻胶的极限分辨率,使得可加工的微细线路尺寸缩小到10纳米和7纳米工艺节点,但ArF光刻胶未能实现特定图形线路图制造,而EUV可通过缩短光线的波长来提高曝光时的分辨率,从而满足微细图形线路的加工制造需求。因此,随着微细图形线路的加工制造需求提升,EUV作为实现14纳米节点以下的最可行方案将成为未来光刻胶行业主流应用。
· 光刻胶产品定制化需求增长
为满足行业下游个性化的需求,光刻胶制造商需要根据下游终端应用领域企业提出的整体生产工艺和定制化设计需求,设计和制造出符合客户产品的技术和生产工艺,同时还需提供一体化技术综合服务和产品升级服务等解决方案。因此,在全球制造业供给侧结构升级的背景下,行业下游应用领域市场将趋向非标准化,推动定制化光刻胶需求的增长。
· 光刻胶产品国产化程度提升
由于光刻胶行业的技术壁垒较高,一旦企业缺少核心技术,将在光刻胶市场不具备竞争优势,这样的形势促使中国本土领先光刻胶企业通过加强技术研发,以减少与国外企业的技术差距,推出自主研发的国产光刻胶以替代进口。随着中国光刻胶技术不断进步和行业下游需求持续增长,未来中国光刻胶将逐步完成国产替代进口,光刻胶的国产化趋势明显。
中国光刻胶行业发展趋势 6park.com
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深度见解
光刻胶行业作为半导体、平板显示器和PCB制造环节中的关键材料,经过多年的发展,中国光刻胶技术已有突破性进展。在国家出台相关利好政策的背景下,中国光刻胶制造商在光刻胶研发技术上积极性增强,当前中国光刻胶的研发技术水平逐渐提高,在制造工艺技术和配方工艺领域积累了丰富经验,中国光刻胶行业正加速发展。未来,随着中国光刻胶企业对光刻胶的研发投入持续上升,中国光刻胶企业的技术水平将不断提高,中国有望打破国外企业在光刻胶市场的垄断格局,国产光刻胶有望迎来发展新机遇。