我们知道顶级的光刻设备号称地表最为复杂精密的东西，当然造价也是最昂贵的，目前已经有超过单价7850万美元记录的出现，这些复杂而美丽的东西，在很多尖端行业都有着非常重要的作用，其中最著名的就是微米级别的半导体芯片！













近日中国就研制出一台能量产6纳米核心芯片的自主光刻机，并强占了岛国佳能的市场份额，这是怎么回事呢？大家知道，在这个精密行业一直都是荷日称霸。一个阿麦斯称霸高精度30纳米以下的半导体加工，像日本佳能和尼康则在终端领域站稳脚跟，正在往沉浸式光刻设备发起冲击！













而且他们都不约而同的打压我国的光学领域，不仅限制核心光刻技术进口，有的连纳米芯片都不让我们研究，就是为了掌控住我国每年近2000亿的芯片大市场。我国的光刻领域就是在这种夹缝中艰难的研究，到了2015年，在南京光电所终于成功研制出微米级别光刻机！













在2018年又一鼓作气，成功研制出纳米级别的沉浸光刻机，在实验室最低能刻画出6纳米这么微小的核心芯片，目前已经与上海SMEE形成战略伙伴，很快就可以达到纳米光刻的量产。根据去年数据，同等级的精密设备三星花费了近7620欧元，才从阿麦斯手里拿下！













而台积电则原本已经和佳能初步达成了近十亿美元的设备合同，但是由于SMEE的抢眼表现，台积电已经在做打违约官司的充足准备，毕竟量产六纳米芯片的诱惑非常巨大，达到足以弥补违约的损失，这是想要在我国量子芯片没有出来之前，尽情的最后狂欢一把。