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作者：刘奥
链接：https://www.zhihu.com/question/304097402/answer/542116615
来源：知乎
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谢邀！做过一年表面等离子共振(表面等离子激元，SPR或者SPP，下文使用缩写SPP) 并且在这个领域发过一篇文章的“相对专业”人士来回答一下~
这台基于SPP的光刻机虽然可以达到很高的“分辨率”，但是现阶段并不能应用到大家比较关心的芯片制造行业上~
SPP最初兴起于九十年代，这个技术可以突破衍射极限从而得到更高的“分辨率”。这个“分辨率”要打引号是因为基于SPP的光刻技术只能刻蚀周期性花样(无法刻蚀任意图形)。这就导致了SPP光刻技术的应用前景仅限光栅、光子晶体之类的周期性结构。当然，仅仅光栅、光子晶体本身已经相当重要了(尤其是军事应用)。
此外，这台光刻机还应该是SPP光刻技术第一次正式应用到工业领域(可能也是第一次应用到深紫外光刻领域)。而且这个技术有很好的发展前景，现在这台光刻机使用的是365nm的光源，如果使用现在最先进的193nm 氟化氩准分子激光做光源，有望将“分辨率”提升到12nm（当然，实际肯定不止换一个光源这么简单）。
至于有评论“超净间不戴口罩不专业”的，我只想说：您可能没在超净间做过科研（科研对成品率不太看重）。因为超净服是不透气的，如果天天在超净间捂得严严实实泡八个小时的话可能就直接虚脱了。所以比较常见的做法是：在不接触芯片且离光刻机比较远的时候摘下口罩甚至解开一两颗扣子透透气~ 另外，由于大多数高年级博士生手都特别稳，不戴手套做实验也比较常见的~ （这段仅限不怎么考虑成品率的学术界，工业界显然不能这样！）
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