重磅!我国专利局公开了一种EUV掩模检测专利,难怪ASML突然态度转变
前段时间世界唯一的EUV光刻机供应商荷兰ASML公司突然公开宣布放开对华光刻机销售和维护! 吃瓜群众有点摸不着头脑:怎么突然放开了?随着一项重磅技术专利的公开,困惑马上迎刃而解…… 2024年4月16日,我国专利局公开了一项名为“基于同步信息源的EUV掩模缺陷检测分析集成系统”的发明专利。 要曝光5纳米及更先进处理器的布线图案,需要采用EUV光刻机透过合格的掩模,将极紫外光投射到涂有极紫外光刻胶的硅片才行。这项专利证明我国已经能够造出合格的EUV掩模。 2023年,吉林省科学技术奖提名项目已经证实我国造出了EUV光刻机,瑞泰新材证实EUV光刻胶已通过客户验证。也就是说我国已经集齐了用EUV光刻机生产5纳米处理器甚至3纳米处理器最关键环节的三大件。内行人一看就知道我国很快就能用EUV光刻机开发出5纳米及更先进制程工艺!这或许就是ASML突然态度转变的主要原因。因为再不卖,以后我国就真的不需要了![得意] 号称技术难度最大的工业明珠也要被我国摘下了,就想问问某国慌不慌?[大笑] 6park.com
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