近日，我国EUV光刻机研发取得重大突破。
　　近年来在西方技术封锁下，先进半导体关键制造设备EUV光刻机被限制出口至中国大陆。而面对西方的不断打压，我国科研人员潜心研发，终于成功研制出EUV重要部件——光源工程化样机，为我国突破“卡脖子”技术做出重大贡献。
　　哈工大、长春光机所攻破EUV光刻机三大核心技术
　　EUV光刻机共有三大核心技术，分别为EUV光源系统，高精度弧形反射镜系统、超高精度真空双工件台。
　　早在2015年，中国的长春光机所就已经研发出了EUV光刻机的高精度弧形反射镜系统，多层层镀膜面形误差小于0.1nm，达到了EUV级光刻机的标准。但这套系统有个小问题，并非所有零部件都是国产的，其中镀膜装置采购自海外。
　　2021年7月，中科院控股企业北京中科科美成功研发出镀膜精度控制在0.1nm以内的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置，满足了长春光机所对零部件的技术要求。
　　中科科美研发的镀膜装置送到长春光机所后，我国立刻制造出了EUV级光刻机级别的高精度弧形反射镜系统。
　　这次纯国产，每一个零部件都是国产。
　　至此EUV光刻机的三大核心技术被我国突破了一个，还剩两个。
　　2022年12月7日，哈工大传来喜讯，仪器学院胡鹏程教授团队研发的“高速超精密激光干涉仪”，荣获中国光学领域最高荣誉金隧奖，并在金奖名单里位列第一。 6park.com

。


　　这一技术解决了该领域存在的测不准、测不精、测不快的核心难题，对于促进我国关键核心技术、突破“卡脖子”难题有着重大意义，是解决我国高端光刻机设备国产化的重要条件。
　　具体来说，高速超精密激光干涉仪的探测头体积小，可以嵌入到试验装置或精密装备中，在狭小的空间中进行测量任务，再加上它只需要单根光纤就可以连接探测头和主机，更容易完成超精密的测量目标，可以对晶圆、物镜系统、工作台位置的超精准定位，从而为我国高端光刻机研发提供嵌入式在线测量手段，为纳米计量测试提供核心仪器。
　　因为哈工大的贡献，EUV级光刻机的三大核心技术的第二项，被我国成功突破。
　　还剩下的那最后一项是EUV光源系统，也是EUV光刻机的心脏部件。

　　没有EUV级光源，哪怕其他光刻机部件中国全都造出来了也没用。 6park.com

2023年4月13日，长春光机所官网公布消息，中国科学院院士、中国科学院前院长白春礼在长春光机所参观了EUV光源系统。
　　

　　这是首次官方发文证实了我国已成功研发出EUV光源系统。
　　值得注意的是，在官网介绍的配图里明确表示，白春礼院士参观的是EUV光源样机，也就是说长春光机所已经完成了工程样机的制造。
　　

　　随着一项项关键技术的攻克，我国距离芯片完全国产化的目标也越来越近。
　　对此，外媒的评价是“炸裂式技术突破”。