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人民日报老文章:英明领袖华国锋领导研发光刻机技术
送交者: 洪木林[★★★宁为百夫长★★★] 于 2020-09-21 13:24 已读 3193 次 3 赞  

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1977年5月14~19日,受四机部委托,上海大规模集成电路会战组主持召开本次会议,出席会议的有来自全国光刻机研制、使用的42家单位代表共67人。 6park.com

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1974年《全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战》的那些事-- 6park.com

1974年9月,第一次全国大规模集成电路工业会议召开,国家计委在北京召开《全国大规模集成电路及基础材料攻关大会战会议》,拟定的目标是【1974~1976年期间,突破大规模集成电路的工艺、装备、基础材料等方面关键技术】四机部组织京沪电子工业会战,进行大规模集成电路及材料、装备研发,突破超微粒干板、光刻胶、超纯净试剂、高纯度气体,磁场偏转电子束镀膜机等材料、装备。 6park.com

1975年12月,第二次全国大规模集成电路会议在上海召开。 6park.com

1977年1月,第三次全国大规模集成电路会议在贵州召开。  6park.com

于是才有了80年前后,中科院系统、电子部系统、地方各研发单位光刻机成果的第一次大爆发。
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