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反击台积电!三星承认砸重金引入EUV 明年就能投产7奈米
送交者: eca[☆品衔R4☆] 于 2016-06-02 16:06 已读 496 次  

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《Korea Times》报导,三星电子 (Samsung Electronics)(005930-KS) 副总裁级高层代表已确定於 5 月第一周前往荷兰艾斯摩尔 (ASML) 总部拜访,确定购进 ASML 最新的 NXE3400 极紫外光 (EUV) 微影技术设备。

荷商艾斯摩尔已於 2011 年时超越美商应用材料 (Applied Materials) ,当前为全球最大的半导体设备商,而艾斯摩尔在业务上与英特尔 (Intel)(INTC-US)、台积电 (TSMC)(2330-TW)、三星等三大世界半导体巨擘在业务上皆有合作。

据了解,NXE3400 设备一台的价格为 9000 万欧元,价格非常昂贵,而三星大手笔砸下重金就是为了要在 7 奈米的制程上胜过台积电,以抢回流失的苹果订单和改善该公司的营业利益率。

《Korea Times》指出,由於台积电在此前早已确定成为苹果 A10 晶片的全球独家供应商,这对三星电子来说可谓是一记重击,故三星高层正冀望透过 EUV 微影技术来加速推进 7 奈米晶片制程,盼能够再度重振业绩雄风。

市场人士表示,其实 EUV 微影技术在市场上已经传言已久,但由於控制小至 13.5 奈米波长的困难度甚高,导致 EUV 技术的良率与产能一直是业界人士最担忧的核心问题,据了解,台积电当前并无计划将在 7 奈米制程上引入 EUV 技术,5 奈米制程或许将考虑引进。

而根据野村证券 (Nomura Holdings) 此前研究报告预估,台积电与三星将能够同时於 2017 年第一季迈入 10 奈米制程,而英特尔将在 2017 年第三季才能迈入 10 奈米,报告中亦预估台积电将於 2018 年第三季进入 7 奈米制程,三星至 2018 年都恐怕尚无力跨入 7 奈米领域。

但《Korea Times》报导指称,在三星确定购入 NXE3400 极紫外光 (EUV) 微影技术设备之后,三星的 7 奈米制程脚步将会急速加快,三星官方人士表示,估计在 2017 上半年就能够完成 EUV 设备逻辑晶片制程的安装程序,随后就将进行试放投产。

三星电子周一 (16日) 早盘开高上涨近 0.72% 至每股 126.3 万韩元,而台积电股价则维持在平盘水位附近。

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